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以銅 (Cu) 濺射靶材為例.在制備銅濺射靶時,不可避免地會引入硫、鉛等其他雜質含量.微量的硫可以防止熱加工時晶粒尺寸增大或產生微裂紋;但當硫元素含量高于18 ppm時,會出現微裂紋;隨著兩種雜質元素(硫和鉛)，銅靶材鍍膜濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。

銀是一種柔軟，有光澤的元素，屬于元素周期表中的金屬過渡族。它的熔點為961.78℃，密度為10.49g /cm3.銀的理化性質均較為穩定，導熱、導電性能很好，質軟，富延展性。銀的理化性質均較為穩定，導熱、導電性能很好，質軟，富延展性。其反光率*，可達99%以上。銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學。

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mini型磁控濺射儀KT-Z1650PVD，桌面式設計小巧卻功能齊全。觸摸屏控制功率，樣品臺0-8轉/分旋轉，自動電動樣品擋板等。

金屬磁控濺射儀， 外形小巧 ，功率電流大小可調，觸摸屏控制，有工藝儲存功能，外配水冷機可長時間工作。